Limpieza de la oblea de silicio de la industria de IT con bueno desengrasando funcionamiento

Limpieza de la oblea de silicio de la industria de IT con bueno desengrasando funcionamiento

El proceso limpio de RCA se basa en un método de limpieza desarrollado en RCA Corporation para quitar residuo orgánico de las obleas de silicio. La solución de la limpieza se compone de 5 porciones de agua, de hidróxido de amonio de 1 parte el 27% y del peróxido de hidrógeno de 1 parte el 30%. Quita los contaminantes orgánicos y deja una capa delgada del silicio oxidado en la superficie de la oblea.

Característica de la limpieza de la oblea de silicio

1) solos productos del grupo con PPR perfecto (ratio del precio del funcionamiento)

2) esté libre del calcio, del magnesio, del metal, del cobre, de la ventaja y del fósforo, y cumpla el requisito de ROHS.

3)buen funcionamiento de desengrase para cumplir el requisito del área de las TIC de la alto-exactitud.

Oblea de silicio que limpia parámetro técnico

Instrucciones de la limpieza de la oblea de silicio

1) ponga el agua pura en el tanque de la limpieza hasta de tres cuartos, después, añada el agente en la concentración -5% del 3%, añada el agua hasta el nivel de funcionamiento, último, caliente la solución del baño hasta temperatura de trabajo.

2) necesite cambiar la solución del baño totalmente después de cantidad determinada de desengrase de la rebanada de silicio.

3) reduce hora expuesta en aire de evitar la oxidación.

4) grado de trabajo de la temperatura 50-65, tiempo de la disposición: 2-5minutes.